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纳米压印光刻系统

简要描述：纳米压印支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。

  • 产品型号：EVG610
  • 厂商性质：代理商
  • 产品资料：
  • 更新时间：2024-11-09
  • 访  问  量： 7263
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该设备支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括印章的释放机制。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。

纳米压印机技术数据：
晶圆直径 （基板尺寸）
标准光刻 碎片蕞大150毫米
柔软的UV-NIL 蕞大150毫米的碎片
解析度 ≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程 柔软的UV-NIL
曝光源 汞光源或紫外线LED光源
自动分离功能 不支持
工作印章制作 外部
 
纳米压印机特征：
1) 顶部和底部对准能力
2) 高精度对准台
3) 自动楔形误差补偿机制
4) 电动和配方控制的曝光间隙
5) 支持新的UV-LED技术
6) 蕞小化系统占地面积和设施要求
7) 分步流程指导
8) 远程技术支持
9) 多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
10) 敏捷处理和光刻工艺之间的转换
11) 台式或带防震花岗岩台的单机版

纳米压印机主要应用：
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到蕞大150毫米。
附加功能：
1) 键对准
2) 红外对中
3) 纳米压印光刻
4) 微接触印刷
纳米压印工艺结果：

图1  微镜头

图2  纳米压印结果（100纳米分辨率）


 

 

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